Il 3 ottobre, il Ministero dell'Economia, del Commercio e dell'Industria giapponese (METI) ha annunciato che concederà sovvenzioni per un valore massimo di 192 miliardi di Yen (1,22 miliardi di Euro) a supporto degli investimenti nello stabilimento di Hiroshima della Micron Memory Japan (Prefettura di Hiroshima), una filiale del gigante statunitense dei semiconduttori Micron Technology. A Hiroshima l'azienda intende sviluppare e produrre memorie a semiconduttore di nuova generazione note come "DRAM" e il METI - che promuove l'attrazione di basi produttive in Giappone - ha deciso di supportare l’operazione.Già l'anno scorso, il METI aveva deciso di sovvenzionare l'impianto per un massimo di 46,5 miliardi di Yen (298 milioni di Euro). Nel maggio di quest'anno, tuttavia, la Micron ha annunciato che avrebbe investito fino a 500 miliardi di Yen (3,2 miliardi di Euro) nei prossimi anni, a condizione di ricevere il sostegno del governo giapponese. La sovvenzione statale giunge quindi in risposta alla Micron. Quest’ultima ha annunciato l'intenzione di introdurre nello stabilimento di Hiroshima anche la tecnologia di litografia ultravioletta estrema (EUV), essenziale per lo sviluppo di semiconduttori sottili di nuova generazione.I 192 miliardi di Yen dovrebbero finanziare le operazioni di “R&D” di memorie a semiconduttore di nuova generazione (25 miliardi di Yen) e supportare gli investimenti di capitale per le attrezzature necessarie per la produzione di massa (167 miliardi di Yen), ipotizzando l’inizio della commercializzazione del prodotto intorno alla fine del 2025. A partire dal 2021 il Governo ha stanziato un budget di circa 2.000 miliardi di Yen (12,8 miliardi di Euro) per rafforzare la base produttiva nazionale di semiconduttori. Fino ad ora ha offerto sussidi alla Taiwan Semiconductor Manufacturing Corporation (TSMC) per uno stabilimento a Kumamoto e al gigante nazionale del settore, la Kioxia Corporation, per lo stabilimento a Yokkaichi. (ICE TOKYO)

Fonte notizia: ASAHI SHIMBUN