La giapponese Dai Nippon Printing (DNP) ha sviluppato una tecnologia apparentemente in grado di ridurre del 90% il consumo di energia necessario per produrre semiconduttori avanzati, un passo che potrebbe ridurre significativamente il costo di produzione dei chip per l’intelligenza artificiale.DNP punta ad avviare nel 2027 la produzione di massa di un materiale per stampi (template) utilizzabile per realizzare chip all’avanguardia da 1,4 nanometri con le apparecchiature Canon.Attualmente, la fabbricazione di chip così avanzati richiede apparecchiature di litografia EUV (ultravioletti estremi), prodotte esclusivamente dalla società olandese ASML Holding. Il processo di litografia, in cui i circuiti vengono formati sui wafer, rappresenta dal 30% al 50% del costo totale di produzione dei chip. La giapponese Canon, che produce macchine litografiche per semiconduttori, dispone tuttavia di apparecchiature di nanoimprint lithography, che creano i circuiti stampandoli direttamente sui wafer. Il processo di nanoimprint è stato considerato finora incompatibile con chip da 2 nm o più avanzati, ma DNP ha sviluppato uno stampo per circuiti utilizzabile per la produzione di chip da 1,4 nm.I macchinari di nanoimprint che la Canon commercializza gia' dal 2023, consumano meno energia rispetto ai dispositivi EUV e il prezzo per unità è stimato in alcuni miliardi di yen (1 miliardo di Yen = 6,4 milioni di USD), di molto inferiore al costo della litografia EUV.I chip di prossima generazione da 1,4 nm saranno utilizzati nei data center per l’IA e nei sistemi di guida autonoma.    (ICE TOKYO)

Fonte notizia: NIKKEI ASIA REVIEW